AI視覺方案

SOLUTION

專案名稱	客戶需求	使用製程	目的	改善後功能
Wafer 偏移監控	監控 wafer 偏移	Photo / Wet Etching	改善因 spin coating 腔體內若有 wafer 偏移狀況發生，無法檢測造成 wafer 破片及不良率問題	監測腔體內 stage 上 wafer 狀態，當 wafer 偏移可以進行警報及停機。
製程 wafer 破片監控	Wafer 破片監控	Etching	提升機台偵測 Wafer 破片檢出率	即時預警偵測 Wafer 破片問題發生 , 有效降低 wafer報廢率, 並提升設備 up time.
光源控制與校正系統	降低因機台檢測光源變異或機差造成的誤判。	封測 AOI	降低誤判率及人員手動校正	1. 量測燈源的絕對值, 準確知道光源差異與機差 2. One click 自動校正光源機差 3. 原廠 AOI光源訊號 decay 功能提醒及補正
Wafer 傾斜 / warping / shift 定位監控	監控 wafer 傾斜/ warping / shift	黃光	因腔體內若有 wafer 傾斜 / warping / shift 狀況發生，造成 wafer 破片及不良率問題	監測腔體內部，當 wafer 異常時可以進行警報及停機。
Nozzle 漏液監控	監控光阻或 strip 或蝕刻等液體的噴塗 nozzle 是否有異常	Photo Track/Wet	nozzle 中的液體製程後漏液回滴在 wafer 上造成 yield loss	AI vision監控辨識 nozzle 是否有異常發生
Wafer position 監控	監控各種設備中 wafer 的絕對位置是否正確	EFEM/TF/Plating/Etching	避免因 wafer 在 robot or loader or cassette 上因為位置誤差造成 wafer 刮傷或破片	有效即時監控 wafer 位置降低 wafer 報廢率提升 OEE